真空镀膜技术

bone1991 · 发表于 2015-9-25 21:20:43

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜的产品，将被镀薄膜基材装在真空蒸镀机中，用真空泵抽真空，使镀膜中的真空度达到 1.3×10－2～1.3×10-3Pa,加热坩锅使高纯度的铝丝（纯度99.99%）在 1200℃～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片或基材，镀的材料（金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等，其中用的最多的是铝）被成为靶材。